反射膜厚儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最-快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強，在振動或復雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫(yī)學、汽車及新材料與新能源研發(fā)等領域，能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫(yī)-用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求，助力各行業(yè)提升產品質量與研發(fā)效率。
半導體膜厚測試儀的產品特點：
1. 精準測量：支持20nm超薄膜厚檢測，準確度±1nm、重復精度0.05nm，滿足精密檢測需求；
2. 高速采樣：最-高采樣速度100Hz，適配產線快速檢測，提升測量效率；
3. 寬光譜覆蓋：采用氘鹵組合光源，光譜覆蓋紫外至近紅外，可解析單層/多層膜厚；
4. 強抗干擾性：高靈敏度元器件搭配抗干擾光學系統(tǒng)+多參數反演算法，復雜環(huán)境下測量穩(wěn)定；
5. 靈活易適配：支持自定義膜結構測量，設備小巧易安裝，配套軟件及二次開發(fā)包，適配實驗室/產線多場景。
半導體膜厚測試儀的測試原理：
反射膜厚儀基于白光干涉原理工作，光源發(fā)出的寬帶光入射至待測薄膜表面后，經薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產生干涉，干涉信號中包含薄膜厚度、光學常數等關鍵信息，設備通過探頭采集干涉后的反射光譜，對特定波段范圍內的光譜進行模型擬合后，即可反演解析出薄膜的厚度、光學常數及粗糙度等參數，整個系統(tǒng)由高強度組合光源提供寬光譜入射光，經光學系統(tǒng)傳輸至樣品，反射光返回后由高速光譜模塊采集信號，最終通過上位機軟件完成數據處理與結果輸出。
技術參數
| 型號 | HD-FT50UV | HD-FT50NIR |
| 建議工作距離 | 非聚焦光束，安裝距離5至10mm | 安裝側面出光附加鏡時：34.5mm±2mm； 軸向出光時：55mm±2mm； |
| 測量角度 | ±10° | ±5° |
| 光斑類型 | 彌散光斑；在10mm安裝距離時，光斑直徑約為4mm； | 聚焦光斑；約200μm |
| 探頭外徑*長度 | Φ6.35*3200mm3 | Φ20*73mm |
| 探頭重量 | 190g | 108g（探頭）、49g（附加鏡） |
| 光源類型 | 氘鹵光源 | 鹵素光源 |
| 波長范圍 | 190-1100nm | 400-1100nm；1000-1700nm |
| 測厚范圍 | 約20nm~50μm（折射率1.5時） | 約50nm~50μm（折射率1.5時） |
| 適配探頭 | UV-VIS | VIS-NIR軸向； VIS-NIR徑向；（標配其一） |
| 可連探頭數量 | 1 | |
| 探頭防護等級 | IP40 | |
| 重復精度 | 0.05nm | |
| 準確度 | <±1nm或±0.3%（取較大值） | |
| 采樣頻率 | Max.100Hz（視求解參數復雜度而定） | |
| 測控軟件 | 專用上位機軟件 | |
| 電源電壓 | 220V±20V50HzAC/ | |
| 最-大功率 | 50W | |
| 工作溫度 | -10至+40℃ | |
| 相對濕度 | 20%至85%RH（無冷凝） | |
| 控制器重量 | 約5000g | |
